半导体集成电路废水怎么处理

半导体集成电路（IC）生产过程中产生的废水含有各种化学物质，本文小编将介绍这类废水的处理技术。

常见的处理技术主要包括以下几个方面：

物理处理法

物理处理法主要是通过物理手段来去除废水中的固体物质或悬浮物，常见的方法有：

- 沉淀法：利用重力使悬浮颗粒沉降。

- 过滤法：使用滤网或滤膜拦截废水中的固体杂质。

- 气浮法：通过加入空气形成气泡，使废水中的细小颗粒附着于气泡上并浮出水面。

化学处理法

化学处理法主要是利用化学反应来转化或去除废水中的有害物质，常用的方法包括：

- 中和法：通过添加酸或碱调整废水pH值，使其达到中性状态。

- 混凝沉淀法：加入混凝剂促使废水中的胶体物质凝聚成较大的颗粒，便于后续处理。

- 氧化还原法：通过氧化剂或还原剂改变废水中有害物质的化学形态，使之易于去除。

高级处理技术

为了达到更严格的排放标准，有时需要采用高级处理技术进一步净化水质，如：

- 膜分离技术：利用超滤、纳滤、反渗透等膜技术去除废水中的溶解性物质。

- 电化学处理：通过电解作用去除废水中的重金属离子或其他难降解物质。

- 高级氧化技术：如Fenton试剂氧化、臭氧氧化等，用于降解废水中的难降解有机物。